By this author

Study of MoO₃ and Ti_xMo_yO_z thin films obtained by atomic layer deposition

Issue number 1 from 15.01.2024

Проведено ex situ исследование молибденоксидных (MoO₃) и титан-молибденовых оксидных (Ti_xMo_yO_z) тонких пленок, полученных при 150°С методом атомно-слоевого осаждения с использованием тетрахлорида титана (TiCl₄), оксотетрахлорида молибдена (MoOCl₄) и воды. Атомно-слоевое осаждение Ti_xMo_yO_z проводили с использованием суперциклов, состоящих из субциклов ТiCl₄/H₂O и MoOCl₄/H₂O. В работе получены два типа пленок Ti_xMo_yO_z, в которых соотношение субциклов составляло 1 : 1 (1Ti1MoO) и 1 : 7 (1Ti7MoO). Методами спектроскопической эллипсометрии и рентгеновской рефлектометрии определена постоянная роста пленок. Методом рентгеновской рефлектометрии определены также значения плотности и среднеквадратичной шероховатости пленок. При помощи рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии установлен состав пленок и выяснено, что степень окисления молибдена в пленках MoO₃ и 1Ti7MoO равна +6, а в пленке 1Ti1MoO обнаружен молибден в степени окисления +5 и +6. Рентгенодифракционный анализ показал, что полученные пленки имеют аморфную структуру.

35 0